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SN-ZK-300D

300L大型真空等离子清洗设备
无论是金属、玻璃、陶瓷、塑料、橡胶,亦或是高分子、复合材料,都可用等离子体进行很好地表面处理。特别是一些不耐热和不耐溶剂的材料,用大型真空等离子清洗机设备进行表面更是有它的独到之处。
Parameter

规格参数

品牌ShenNa·深那型号SN-ZK-300D
腔体容量300L腔体尺寸600*600*800mm
频率40kHz功率1000W
13.56MHz300W
电极层数1-4层气体通道2-4通道MFC
真空度20Pa或更低真空计1*10-2~1*105
气体接口I.D4mm;O.D6mm控制系列10寸PLC触摸屏(手动/自动)
主机尺寸1500*1800*1350mm电源380V/16A
附件真空泵1台(干泵或油泵)、波纹管1条
气体氧气、氮气、氩气、氢气或混合气体
Particulars

产品详情

SN-ZK-300D大型真空等离子清洗设备功能特点


保护功能:工作气体耗尽报警、压缩空气力低于设定值报警、反应仓泄露率过大报警、控制面板处设急停按钮等

基础压力设定范围:(10~50)Pa

工艺气路:标配2路(氧气和氩气)

控制方式:PLC+触摸屏

恒发彩票反应仓尺寸:不锈钢,不小于L400 ×W400 ×H350(mm)

故障率<1%(连续生产100小时,故障时间不能超过1小时,故障次数不超过1次),单次故障处理时间不超过1小时

恒发彩票显示功能:工艺参数显示;运行时间显示;工艺过程实时监视并显示运行状态,如泵的、射频电源监视并显示运行状态,如泵的、射频电源监视并显示运行状态,如泵的、 射频电源质量流量等;故障报警,提示项目


应用场景    

电子行业:电子元器件灌装前活化;邦定板清洗
医疗行业:生物材料活化;体内和体外医疗器械表面处理
光学光电:镜片清洗;提高隐形眼镜浸润性;ITO面板清洁活化
电子行业:去除孔内胶渣、碳化物等;特氟隆活化;线路板表面清洁
半导体行业:硅片、晶圆光刻胶去除;引线焊接前清洁;芯片底部填充表面预处理

大型真空等离子清洗设备等离子清洗设备广泛地应用于半导体、电子、光学光电、生物医疗、汽车、航空航天、科研及其他通用工业领域工件表面清洗、喷涂、改性、刻蚀等。

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